Az Intel „IDM 2.0” stratégiája

Az Intel „IDM 2.0” stratégiájának célja, hogy technológiai innováción és folyamatfejlesztésen keresztül átalakítsa az Intel vezető szerepét a félvezetőiparban a globális félvezetőiparban. Ez a stratégia magában foglalja a High NA EUV litográfiai gépek bevezetését, egy olyan korszerű chipgyártó berendezést, amely jelentősen javíthatja a chip teljesítményét és a tranzisztorsűrűséget. Az Intel azt tervezi, hogy a High NA EUV technológiát 2027-re kereskedelmi forgalomba helyezi, és 2030-ra nullszaldót ér el öntödei üzletágában.