Стратегія Intel «IDM 2.0».

Стратегія Intel «IDM 2.0» спрямована на зміну лідерства Intel у світовій промисловості напівпровідників за допомогою технологічних інновацій і вдосконалення процесів. Ця стратегія включає впровадження літографічних машин High NA EUV, найсучаснішого обладнання для виробництва мікросхем, яке може значно покращити продуктивність мікросхеми та щільність транзисторів. Intel планує запровадити технологію High NA EUV у комерційне виробництво до 2027 року та досягти беззбитковості свого ливарного бізнесу до 2030 року.