Inteli "IDM 2.0" strateegia

Inteli IDM 2.0 strateegia eesmärk on tehnoloogilise innovatsiooni ja protsesside täiustamise kaudu ümber kujundada Inteli juhtpositsioon ülemaailmses pooljuhtidetööstuses. See strateegia hõlmab High NA EUV litograafiamasinate kasutuselevõttu, tipptasemel kiibi tootmisseadmeid, mis võivad oluliselt parandada kiibi jõudlust ja transistori tihedust. Intel kavatseb 2027. aastaks kasutada kommertstootmises High NA EUV tehnoloogiat ja saavutada 2030. aastaks oma valukoja kasumiläve.