Intelova strategija "IDM 2.0".

Intelova strategija "IDM 2.0" ima za cilj preoblikovati Intelovo vodstvo u globalnoj industriji poluvodiča kroz tehnološke inovacije i poboljšanje procesa. Ova strategija uključuje uvođenje High NA EUV litografskih strojeva, najsuvremenije opreme za proizvodnju čipova koja može značajno poboljšati performanse čipa i gustoću tranzistora. Intel planira koristiti High NA EUV tehnologiju za komercijalnu proizvodnju do 2027. i postići rentabilnost u svom poslovanju ljevaonicama do 2030.