Chiến lược "IDM 2.0" của Intel

Chiến lược "IDM 2.0" của Intel nhằm mục đích định hình lại vị thế dẫn đầu của Intel trong ngành công nghiệp bán dẫn toàn cầu thông qua đổi mới công nghệ và cải tiến quy trình. Chiến lược này bao gồm việc giới thiệu máy quang khắc EUV High NA, một thiết bị sản xuất chip hiện đại có thể cải thiện đáng kể hiệu suất chip và mật độ bóng bán dẫn. Intel có kế hoạch đưa công nghệ EUV High NA vào sản xuất thương mại vào năm 2027 và đạt điểm hòa vốn trong mảng kinh doanh đúc chip vào năm 2030.