กลยุทธ์ “IDM 2.0” ของ Intel

กลยุทธ์ "IDM 2.0" ของ Intel มีเป้าหมายเพื่อปรับเปลี่ยนความเป็นผู้นำของ Intel ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ระดับโลกผ่านนวัตกรรมทางเทคโนโลยีและการปรับปรุงกระบวนการ กลยุทธ์นี้รวมถึงการนำเครื่องจักรลิโธกราฟี EUV NA สูงมาใช้ ซึ่งเป็นอุปกรณ์การผลิตชิปที่ล้ำสมัยที่สามารถปรับปรุงประสิทธิภาพของชิปและความหนาแน่นของทรานซิสเตอร์ได้อย่างมีนัยสำคัญ Intel วางแผนที่จะนำเทคโนโลยี High NA EUV ไปใช้ในการผลิตเชิงพาณิชย์ภายในปี 2027 และบรรลุจุดคุ้มทุนในธุรกิจการหล่อภายในปี 2030