Samsung kavatseb paigaldada oma esimese High-NA EUV Lõuna-Koreasse Hwaseongi, mis peaks kasutusele võtma 2025. aasta keskel.
2024. aasta
2025. aasta
DRAM
EUV
JSR
Lasertec
Samsung
Tokyo Electron
protsessi
loogika
ava
Lõuna-Korea
Samsung
alus
Laser
Tokyo Electron
õun
2024-08-17 14:51
93
Teatatakse, et Samsung alustab 2024. aasta neljandast kvartalist kuni 2025. aasta esimese kvartalini Lõuna-Koreas oma Hwaseongi pargis esimese High-NA EUV installimist. Eeldatakse, et see võetakse kasutusele 2025. aasta keskel ja seda kasutatakse esmalt alla 2nm loogikaprotsesside ja täiustatud DRAM-kiibi protsesside arendamiseks. Samsung kavatseb teha koostööd ka Laserteci, JSR-i, Tokyo Electroni ja Synopsysiga, et ehitada kõrge NA EUV ökosüsteem.
