Spoločnosť Samsung Electronics výrazne znižuje plány obstarávania litografického zariadenia EUV pomocou ASML

Spoločnosť Samsung Electronics nedávno oznámila, že výrazne zníži svoje plány obstarávania litografického vybavenia EUV s holandskou spoločnosťou ASML. Počet litografických zariadení novej generácie EUV, ktoré sa pôvodne plánovali uviesť na trh, sa zníži zo 4 na 2 s mierou približne 1 bilión wonov. Pôvodným plánom bolo investovať 700 miliónov eur (približne 1 bilión wonov) na zriadenie výskumného a vývojového centra v metropolitnej oblasti a na podporu vývoja litografického vybavenia novej generácie, tento plán bol však teraz pozastavený.