Společnost Samsung Electronics výrazně snižuje plány nákupu litografického vybavení EUV pomocí ASML

Společnost Samsung Electronics nedávno oznámila, že výrazně omezí své plány nákupu litografického vybavení EUV s nizozemskou společností ASML. Počet litografických zařízení nové generace EUV, které se původně plánovalo zavést, se sníží ze 4 na 2, přičemž měřítko bude přibližně 1 bilion wonů. Původní plán byl investovat 700 milionů eur (asi 1 bilion wonů) do zřízení výzkumného a vývojového centra v metropolitní oblasti a podpory rozvoje litografického vybavení nové generace, ale tento plán byl nyní pozastaven.