ASML與imec合作開發高階節點技術，協助2nm以下研發

根據合作協議，ASML和imec將利用ASML的高階節點技術，如0.55 NA EUV、0.33 NA EUV、DUV浸沒、YieldStar光學計量和HMI單光束和多光束技術，為國際半導體生態系統提供最先進的2nm以下研發基礎設施。