Az Imec és a Zeiss egyesítik erőiket az EUV litográfiai technológia és a globális digitalizáció előmozdítása érdekében

Az Imec és a Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology megállapodást írt alá a kulcsfontosságú félvezetőgyártási technológiák, például a nagy numerikus apertúrájú EUV litográfia fejlesztésének közös előmozdításáról. A technológia nagy teljesítményű és energiahatékonyabb mikrochipek előállítását segíti elő, amelyek az olyan kulcsfontosságú technológiák alapját képezik, mint a mesterséges intelligencia, az autonóm vezetés, az Ipar 4.0, valamint úttörő megoldások az orvostechnológiában és az energetikai átállásban.