Imec і Zeiss об’єднують зусилля для просування технології EUV-літографії та глобальної цифровізації

Imec і Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology підписали угоду про спільне сприяння розвитку ключових технологій виробництва напівпровідників, таких як EUV-літографія з високою числовою апертурою. Ця технологія допоможе виробляти більш потужні та енергоефективні мікрочіпи, які є основою для таких ключових технологій, як штучний інтелект, автономне водіння, Індустрія 4.0, а також новаторські рішення в медичних технологіях і енергетичному переході.