La première plaquette de niobate de lithium à couche mince photonique de silicium de 8 pouces au monde a été développée avec succès

La première plaquette de niobate de lithium à couche mince photonique de silicium de 8 pouces au monde a été développée avec succès dans le laboratoire de Jiufengshan. Cette réalisation utilise la technologie de liaison d'une plaquette photonique de silicium SOI de 8 pouces et d'une plaquette de niobate de lithium de 8 pouces pour réaliser une intégration monolithique des fonctions d'émetteur-récepteur optoélectronique, représentant la technologie la plus avancée en matière d'intégration optoélectronique de composés à base de silicium.