Introduktion till fotolitografimaskintyper och huvudmodeller av ASML

Typerna av litografimaskiner är huvudsakligen indelade i I-line, KrF, ArF torr metod, ArF nedsänkningstyp och EUV. Bland dem är EUV den mest avancerade typen. ASML:s huvudmodeller inkluderar: I-line XP 400/450-serien, motsvarande processen på 300~500nm KrFs XT860/1060, motsvarande processen på 180~130nm ArF-torrprocessen XT1400/1460/1700, motsvarande processnoden 13; Runt 0~65nm; ArF-nedsänkta XT1900- och NXT-serier, inklusive NXT1950/1965/1970/1980 och NXT2000/2050/2100, motsvarar processer under 45nm. Huvudmodellen av EUV är NXE3400/3600, vilket motsvarar under 7nm.