Introducción a los tipos de máquinas de fotolitografía y principales modelos ASML.

Los tipos de máquinas de litografía se dividen principalmente en I-line, KrF, ArF método seco, ArF tipo inmersión y EUV. Entre ellos, EUV es el tipo más avanzado. Los principales modelos de ASML incluyen: I-line XP Serie 400/450, correspondiente al proceso de 300 ~ 500 nm; XT860/1060 de KrF, correspondiente al proceso de 180 ~ 130 nm; proceso seco ArF XT1400/1460/1700, correspondiente al nodo de proceso 13. Alrededor de 0 ~ 65 nm; las series XT1900 y NXT sumergidas en ArF, incluidas NXT1950/1965/1970/1980 y NXT2000/2050/2100, corresponden a procesos por debajo de 45 nm. El modelo principal de EUV es NXE3400/3600, que corresponde a menos de 7 nm.