Introduzione alle tipologie di macchine per fotolitografia e ai principali modelli ASML

I tipi di macchine per litografia sono principalmente suddivisi in I-line, KrF, metodo a secco ArF, tipo ad immersione ArF e EUV. Tra questi, l'EUV è il tipo più avanzato. I principali modelli ASML includono: I-line XP serie 400/450, corrispondente al processo di 300~500 nm XT860/1060 di KrF, corrispondente al processo di 180~130 nm ArF processo a secco XT1400/1460/1700, corrispondente al nodo di processo 13 Circa 0~65 nm; le serie XT1900 e NXT immerse in ArF, inclusi NXT1950/1965/1970/1980 e NXT2000/2050/2100, corrispondono a processi inferiori a 45 nm. Il modello principale di EUV è NXE3400/3600, che corrisponde a meno di 7 nm.