photolithography စက်အမျိုးအစားများနှင့် အဓိက ASML မော်ဒယ်များကို မိတ်ဆက်ခြင်း။

lithography စက်အမျိုးအစားများကို အဓိကအားဖြင့် I-line၊ KrF၊ ArF dry method၊ ArF immersion type နှင့် EUV ဟူ၍ ခွဲခြားထားသည်။ ၎င်းတို့အထဲတွင် EUV သည် အဆင့်မြင့်ဆုံးအမျိုးအစားဖြစ်သည်။ ASML ၏ အဓိက မော်ဒယ်များတွင် I-line XP ပါဝင်သည်။ 400/450 စီးရီး၊ 300~500nm လုပ်ငန်းစဉ်နှင့် သက်ဆိုင်သော KrF ၏ XT860/1060၊ 0~65nm ဝန်းကျင်တွင် NXT1950/1965/1970/1980 နှင့် NXT2000/2050/2100 အပါအဝင် ArF သည် XT1900 နှင့် NXT စီးရီးများကို နှစ်မြှုပ်ထားသည်။ EUV ၏အဓိကမော်ဒယ်သည် NXE3400/3600 ဖြစ်ပြီး 7nm အောက်နှင့်ကိုက်ညီသည်။