Pengenalan kepada jenis mesin fotolitografi dan model ASML utama

Jenis mesin litografi terbahagi terutamanya kepada I-line, KrF, ArF kering, rendaman ArF dan EUV. Antaranya, EUV adalah jenis yang paling maju. Model utama ASML termasuk: I-line XP Siri 400/450, sepadan dengan proses 300~500nm KrF's XT860/1060, sepadan dengan proses 180~130nm kaedah kering ArF XT1400/1460/1700, sepadan dengan nod proses 13; Sekitar 0~65nm; siri XT1900 dan NXT terendam ArF, termasuk NXT1950/1965/1970/1980 dan NXT2000/2050/2100, sepadan dengan proses di bawah 45nm. Model utama EUV ialah NXE3400/3600, yang sepadan dengan di bawah 7nm.