ASML oznamuje technologický plán pro litografický stroj Hyper-NA EUV příští generace

Společnost ASML oznámila technický plán pro novou generaci litografického stroje Hyper-NA EUV, který je v současné době v rané fázi vývoje. Martin van den Brink, bývalý technologický ředitel společnosti, uvedl, že litografický stroj Hyper-NA EUV potřebuje zlepšit systém světelného zdroje a zvýšit efektivitu výroby na 400 až 500 waferů za hodinu.