Az ASML technológiai tervet jelentett be a következő generációs Hyper-NA EUV litográfiai géphez

Az ASML bejelentette a Hyper-NA EUV litográfiai gép új generációjának műszaki tervét, amely jelenleg a fejlesztés korai szakaszában van. Martin van den Brink, a cég korábbi technológiai igazgatója elmondta, hogy a Hyper-NA EUV litográfiai gépnek javítani kell a fényforrás-rendszert, és óránként 400-500 ostyára kell növelni a gyártási hatékonyságot.