ASML оголошує технологічний план нового покоління літографічної машини Hyper-NA EUV

ASML оголосила про технічний проект нового покоління літографічної машини Hyper-NA EUV, яка зараз знаходиться на ранніх стадіях розробки. Мартін ван ден Брінк, колишній головний технічний директор компанії, сказав, що машина для літографії Hyper-NA EUV потребує вдосконалення системи джерела світла та підвищення ефективності виробництва до 400-500 пластин на годину.