ТСМЦ-ова 2нм процесна технологија напредује глатко

ТСМЦ планира да следеће недеље започне пробну производњу 2нм процесних чипова у својој фабрици у Баошану, Хсинчу, четвртину испред очекивања тржишта. Пробна производња обухватиће тестирање потребне опреме и компоненти које су инсталиране почев од другог квартала. ТСМЦ је навео да у поређењу са 3нм, 2нм процес може побољшати перформансе за 10% до 15% и смањити потрошњу енергије до 30%. ТСМЦ ће применити ГАА наносхеет транзисторску структуру почевши од 2нм процеса и увести технологију задњег напајања (БСПР) која се очекује да почне 2026.