TSMC 2nm procesa tehnoloģija attīstās vienmērīgi

TSMC nākamnedēļ plāno sākt 2 nm procesa mikroshēmu izmēģinājuma ražošanu savā rūpnīcā Baošanā, Hsinču štatā, par ceturtdaļu apsteidzot tirgus cerības. Izmēģinājuma ražošana ietvers nepieciešamo iekārtu un komponentu testēšanu, kas uzstādīti sākot ar otro ceturksni. TSMC norādīja, ka, salīdzinot ar 3nm, 2nm process var uzlabot veiktspēju par 10% līdz 15% un samazināt enerģijas patēriņu līdz pat 30%. TSMC izmantos GAA nanoloksnes tranzistora struktūru, sākot no 2 nm procesa, un ir paredzēts, ka masveida ražošana sāksies 2026.