„Intel“ „IDM 2.0“ strategija

„Intel“ „IDM 2.0“ strategija siekiama pakeisti „Intel“ lyderystę pasaulinėje puslaidininkių pramonėje per technologines naujoves ir tobulinant procesus. Ši strategija apima aukšto NA EUV litografijos mašinų – pažangiausios lustų gamybos įrangos, kuri gali žymiai pagerinti lusto našumą ir tranzistorių tankį – įdiegimą. „Intel“ planuoja iki 2027 m. komercinei gamybai naudoti „High NA EUV“ technologiją ir iki 2030 m. pasiekti savo liejyklų verslo lūžio.