ASML und imec arbeiten gemeinsam an High-End-Knotentechnologie, um Forschung und Entwicklung unter 2 nm zu unterstützen

Im Rahmen der Kooperationsvereinbarung werden ASML und imec die High-End-Knotentechnologien von ASML wie 0,55 NA EUV, 0,33 NA EUV, DUV-Immersion, optische YieldStar-Messtechnik und HMI-Einzelstrahl- und Mehrstrahltechnologien nutzen, um das internationale Halbleiter-Ökosystem mit hochmoderner F&E-Infrastruktur im Sub-2-nm-Bereich zu versorgen.