BCD工艺的发展历程

BCD（Bipolar-CMOS-DMOS）技术是一种单片集成工艺技术，将BJT（双极型晶体管）、CMOS（互补金属氧化物半导体）和DMOS（双扩散金属氧化物半导体）晶体管技术组合在单个芯片上的高级制造工艺，1985年由意法半导体率先研制成功。随着集成电路工艺的进一步发展，BCD工艺已经成为功率集成电路的主流制造技术。